一次写入多次读取的光记录介质

专利权的终止

摘要

本发明提供一次写入多次读取的光记录介质，从激光束入射平面起依次包含基底、含铋和铋的氧化物中的任何一种的记录层、上涂层和反射层，其中当将激光施加到该基底的平坦部分上时，上述一次写入多次读取的光记录介质的反射率为35％或更低；或者下述一次写入多次读取的光记录介质，从激光束入射平面起依次包含基底、底涂层、含铋和铋的氧化物中的任何一种的记录层、上涂层和反射层，其中当将激光施加到该基底的平坦部分上时，上述一次写入多次读取的光记录介质的反射率为35％或更低。

基本信息

专利标题：

一次写入多次读取的光记录介质

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101080327A

申请号：

CN200580043011.7

公开（公告）日：

2007-11-28

申请日：

2005-12-13

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

藤井俊茂笹登林嘉隆三浦裕司藤原将行

申请人：

株式会社理光

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

宋莉

优先权：

CN200580043011.7

主分类号：

B41M5/26

IPC分类号：

B41M5/26 G11B7/24 G11B7/243 G11B7/254 G11B7/257