流化床装置
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明提供一种抑制静电影响的流化床装置及使用该装置的除静电方法，所述流化床装置在医药品制备工序、化妆品制备工序、食品制备工序、化学品制备工序等中将微粒作为流化床进行处理。本发明的流化床装置设置有对流化床装置内的微粒照射X射线的X射线照射装置。
基本信息
专利标题 ：
流化床装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101080267A
申请号 ：
CN200580043596.2
公开（公告）日 ：
2007-11-28
申请日 ：
2005-12-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
财满泰弘
申请人 ：
卫材R&D管理有限公司
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
杨宏军
优先权 ：
CN200580043596.2
主分类号 ：
B01J8/42
IPC分类号 ：
B01J8/42 B01J2/16
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备
B01J8/00
在有流体和固体颗粒的情况下所进行的一般化学或物理的方法；这些方法所用的装置
B01J8/18
有流态化颗粒
B01J8/24
根据“流化床”技术
B01J8/42
用承受电流或辐射的流化床
法律状态
2011-09-14 ：
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101183795214
IPC(主分类) : B01J 8/42
专利申请号 : 2005800435962
公开日 : 20071128
号牌文件序号 : 101183795214
IPC(主分类) : B01J 8/42
专利申请号 : 2005800435962
公开日 : 20071128
2008-01-23 ：
实质审查的生效
2007-11-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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