光蚀刻用清洗液及使用其的清洗方法
授权
摘要
本发明提供一种光蚀刻用清洗液，其对于用于i线、KrF、ArF的各种抗蚀剂、含硅抗蚀剂、化学放大型正型抗蚀剂等各式各样组成的抗蚀剂显示同样优良的清洗性，处理后的干燥性良好，不会由于清洗而损害抗蚀剂特性。该清洗液含有(A)选自乙酸或丙酸的低级烷基酯中的至少1种和(B)选自1分子中的碳原子数为5～7的酮中的至少1种，并且(A)∶(B)的质量比为4∶6～7∶3的范围。
基本信息
专利标题 ：
光蚀刻用清洗液及使用其的清洗方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101084473A
申请号 ：
CN200580043768.6
公开（公告）日 ：
2007-12-05
申请日 ：
2005-12-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
越山淳平康充篠原知真
申请人 ：
东京应化工业株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
张平元
优先权 ：
CN200580043768.6
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2010-07-21 ：
授权
2008-01-23 ：
实质审查的生效
2007-12-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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