磁性多层膜的制造方法
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摘要
一种磁性多层膜的制造方法，包括：在衬底上形成第1磁性层的第1磁性层形成工序；在所述第1磁性层上形成非磁性层的非磁性层形成工序；在所述非磁性层上形成第2磁性层的第2磁性层形成工序；其特征在于，该方法还包括等离子体处理工序，在所述非磁性层形成工序之前，将所述衬底放到等离子体处理装置中，使所述衬底与所述等离子体处理装置处于电绝缘状态，用感应耦合等离子体进行处理。
基本信息
专利标题 ：
磁性多层膜的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101095246A
申请号 ：
CN200580045808.0
公开（公告）日 ：
2007-12-26
申请日 ：
2005-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
菊地幸男森田正
申请人 ：
株式会社爱发科
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
北京德琦知识产权代理有限公司
代理人 ：
陆弋
优先权 ：
CN200580045808.0
主分类号 ：
H01L43/12
IPC分类号 ：
H01L43/12 H01L27/105 G11B5/39 H01L43/08 H01L21/8246 H01F41/18
法律状态
2010-05-26 ：
授权
2008-02-20 ：
实质审查的生效
2007-12-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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