探测在纺织材料中的杂质
授权
摘要
一种用于探测在束状材料中杂质的设备，包括用于发射可见光的第一光源(2)、用于在红外光谱辐射的第二光源(3)、对从纺织材料(1、11)反射的可见光敏感并用于产生对应的第一探测器信号的第一探测器(4)以及对在从纺织材料(1、11)反射的红外光谱附近的辐射敏感并用于产生对应的第二探测器信号的第二探测器(5)。光源(2、3)和探测器(4、5)布置成照射和观察纱线(1)相同区段，而信号处理区段(7)用于确定比值和两个探测器信号的加权差值，并当所述差值超过阈值时输出指示污染物存在的信号。
基本信息
专利标题 ：
探测在纺织材料中的杂质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101228434A
申请号 ：
CN200580051140.0
公开（公告）日 ：
2008-07-23
申请日 ：
2005-10-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
S·N·拉马钱德兰纳拉亚纳斯瓦米·卡维塔巴拉苏布拉玛尼姆·沙姆格·桑德拉姆
申请人 ：
第一伊沃尔维克斯私人有限公司
申请人地址 ：
印度哥印拜陀
代理机构 ：
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 ：
霍育栋
优先权 ：
CN200580051140.0
主分类号 ：
G01N21/89
IPC分类号 ：
G01N21/89 D01H13/22
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/89
在移动的材料中，例如，纸张、织物中
法律状态
2011-09-07 ：
授权
2008-09-17 ：
实质审查的生效
2008-07-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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