氧化处理设备及其处理方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种氧化处理设备，此氧化处理设备由混合器、氧化剂供应单元、氧化剂吸收及反应槽、触媒氧化反应槽与紫外光氧化反应槽所构成。其中，氧化剂供应单元与混合器连接，氧化剂吸收及反应槽与混合器连接，触媒氧化反应槽与氧化剂吸收及反应槽连接，紫外光氧化反应槽与触媒氧化反应槽连接。通过氧化剂吸收及反应槽的设计，可提高氧化剂利用率及污染物之处理效率。
基本信息
专利标题 ：
氧化处理设备及其处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101016183A
申请号 ：
CN200610003102.4
公开（公告）日 ：
2007-08-15
申请日 ：
2006-02-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林树荣孙观丰蔡耀辉
申请人 ：
慧群环境科技股份有限公司
申请人地址 ：
台湾省台北市内湖区民权东路六段160号8楼之3
代理机构 ：
北京连和连知识产权代理有限公司
代理人 ：
姜兆元
优先权 ：
CN200610003102.4
主分类号 ：
C02F1/72
IPC分类号 ：
C02F1/72 C02F1/32
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先）
C02F1/72
氧化法
法律状态
2009-07-01 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-10-10 ：
实质审查的生效
2007-08-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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