线栅偏振膜和制造用于形成其线栅的模具的方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

公开了一种线栅偏振膜、用于制造线栅偏振膜的方法、制造用于形成其栅格的模具的方法。所述线栅偏振膜包括衬底、层叠在衬底上的栅格结构层、和在栅格结构层的一侧上形成的至少一个金属层。所述用于制造线栅偏振膜的方法包括制备衬底、将栅格结构层涂覆到衬底的上表面、在栅格结构层上形成栅格图案和在栅格图案上淀积金属层。所述制造模具的方法,包括将光致抗蚀膜涂覆到衬底上、通过激光而使用干涉条纹将所述光致抗蚀膜图案化、对所述光致抗蚀膜进行显影、在所述光致抗蚀膜上层叠用于形成线栅偏振膜的栅格图案的材料、和除去衬底和光致抗蚀膜。

基本信息
专利标题 :
线栅偏振膜和制造用于形成其线栅的模具的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1866062A
申请号 :
CN200610005908.7
公开(公告)日 :
2006-11-22
申请日 :
2006-01-19
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李起东
申请人 :
LG电子株式会社
申请人地址 :
韩国首尔
代理机构 :
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 :
樊卫民
优先权 :
CN200610005908.7
主分类号 :
G02B5/30
IPC分类号 :
G02B5/30  G02F1/1333  G03F7/20  G03F7/26  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2008-11-26 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-01-17 :
实质审查的生效
2006-11-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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