用于制造含SiOC的化合物的连续方法
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摘要
本发明涉及连续制造含SiOC基的化合物的方法，在该方法中，在包括塔的第一反应单元内，使反应混合物与醇及任选的水反应生成仍包含挥发性成分的粗制产品，将该粗制产品送至包括塔的第二反应单元内，在该反应单元内额外导入醇，并任选在非反应性有机溶剂存在的情况下，将此处的挥发性成分去除，于该第二反应单元的下端将预期的最终产品取出，其特征在于，在预反应器内，使氯硅烷与醇及任选的水部分转化成反应混合物，并将该反应混合物送入该第一反应单元内。
基本信息
专利标题 ：
用于制造含SiOC的化合物的连续方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1810859A
申请号 ：
CN200610006743.5
公开（公告）日 ：
2006-08-02
申请日 ：
2006-01-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
沃尔夫冈·沙滕曼格奥尔格·洛尔
申请人 ：
瓦克化学股份公司
申请人地址 ：
德国慕尼黑
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
过晓东
优先权 ：
CN200610006743.5
主分类号 ：
C08G77/06
IPC分类号 ：
C08G77/06 C07F7/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G77/00
在高分子主链中形成含硅键合，有或没有硫、氮、氧，或碳键合反应得到的高分子化合物
C08G77/04
聚硅氧烷
C08G77/06
制备的工艺过程
法律状态
2008-11-26 ：
授权
2006-09-27 ：
实质审查的生效
2006-08-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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