电流模式的修整装置
专利权的终止
摘要

一种电流模式的修整装置,用以修整目标电流。此修整装置包括第一晶体管、第一电阻、运算放大器、第一受控电流源以及第二受控电流源。第一受控电流源以及第二受控电流源依据修整数据而各自调整所输出的电流。利用修整数据控制受控电流源,进而通过增加或减少电流的方式来改变流经第一晶体管的目标电流值,因此可以线性地增加或减少目标电流,进而达到修整的目的。

基本信息
专利标题 :
电流模式的修整装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101025637A
申请号 :
CN200610008111.2
公开(公告)日 :
2007-08-29
申请日 :
2006-02-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吕俊德葛振廷
申请人 :
智原科技股份有限公司
申请人地址 :
台湾省新竹市科学园区力行三路5号
代理机构 :
北京连和连知识产权代理有限公司
代理人 :
薛平
优先权 :
CN200610008111.2
主分类号 :
G05F3/16
IPC分类号 :
G05F3/16  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05F
调节电变量或磁变量的系统
G05F3/00
应用具有自调节性能的非控制元件或非控制元件的组合来调节电变量的非回授系统
G05F3/02
调节电压或电流的
G05F3/08
其中变量是直流的
G05F3/10
利用具有非线性特性的非控制器件
G05F3/16
非控制器件是半导体器件
法律状态
2017-04-05 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101711958422
IPC(主分类) : G05F 3/16
专利号 : ZL2006100081112
申请日 : 20060220
授权公告日 : 20100623
终止日期 : 20160220
2010-06-23 :
授权
2007-10-31 :
实质审查的生效
2007-08-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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