包含氟化物的水基除渣剂
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
在此公开了用于选择性除去残渣的组合物和包含该组合物的方法，残渣例如是灰化的光致抗蚀剂和/或工艺残渣。在一方面中，提供了用于除去残渣的组合物，其中组合物的pH值为约2～约9，该组合物包括：包括有机酸和该有机酸的共轭碱的缓冲溶液，其中酸与碱的摩尔比为10∶1～1∶10；氟化物；和水，条件是组合物基本不含额外的有机溶剂。在另一方面，组合物可以更进一步包括缓蚀剂和/或表面活性剂。
基本信息
专利标题 ：
包含氟化物的水基除渣剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1821886A
申请号 ：
CN200610008941.5
公开（公告）日 ：
2006-08-23
申请日 ：
2006-01-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
R·J·罗维托吴爱萍
申请人 ：
气体产品与化学公司
申请人地址 ：
美国宾夕法尼亚州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
刘维升
优先权 ：
CN200610008941.5
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42 C09D9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2010-01-13 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-10-18 ：
实质审查的生效
2006-08-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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