消像差凹面全息光栅的制作方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

一种IV型消像差凹面全息光栅的制作方法，属于光学仪器技术领域，其方法是：184mm＜rc＜224mm、274mm＜rD＜234mm、36＜γ＜66、1＜δ＜31；其中：rc是波源点C在XY平面投影点与O点的距离，rD波源点D在XY平面投影点与O点的距离；γ是直线OC在XY平面投影直线与光栅毛坯法线的夹角，δ是直线OD在XY平面投影直线与光栅毛坯法线的夹角。其有益效果是：本发明则使IV型凹面全息光栅的生产实现了产业化，实用化，可以实现大批量的制作，大大降低了生产成本。

基本信息

专利标题：

消像差凹面全息光栅的制作方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1967293A

申请号：

CN200610016609.3

公开（公告）日：

2007-05-23

申请日：

2006-03-03

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

李文昊齐向东

申请人：

长春市恒宇光电科技有限公司

申请人地址：

130012吉林省长春市高新区震宇街158号

代理机构：

吉林长春新纪元专利代理有限责任公司

代理人：

纪尚

优先权：

CN200610016609.3

主分类号：

G02B5/18

IPC分类号：

G02B5/18 G03F7/00 G03H1/04