高强度铸造稀土镁合金微弧氧化处理方法
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明涉及高强度铸造稀土镁合金微弧氧化处理方法，具体涉及SJDM－1高强度铸造稀土镁合金微弧氧化处理方法。具体步骤如下：(1)配制电解液；(2)SJDM－1高强度铸造稀土镁合金前处理；(3)微弧氧化；(4)SJDM－1高强度铸造稀土镁合金后处理。本发明的工艺流程简洁，生产效率高，成本低廉且无尖端放电现象，陶瓷层均匀致密，经分析表明：陶瓷膜厚度可达10－50um，耐蚀性优良；若反应时间延长至30－60分钟，则陶瓷膜厚度增加到150μm，能显著提高陶瓷层表面硬度，即可达500Hv以上。在要求质轻耐蚀的领域中具有广泛的应用价值。
基本信息
专利标题 ：
高强度铸造稀土镁合金微弧氧化处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1844484A
申请号 ：
CN200610016709.6
公开（公告）日 ：
2006-10-11
申请日 ：
2006-03-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
潘利华常江李珍曲晓春
申请人 ：
中国科学院长春应用化学研究所
申请人地址 ：
130022吉林省长春市人民大街5625号
代理机构 ：
长春科宇专利代理有限责任公司
代理人 ：
马守忠
优先权 ：
CN200610016709.6
主分类号 ：
C25D11/30
IPC分类号 ：
C25D11/30
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D11/00
表面反应，即形成转化层的电解覆层
C25D11/02
阳极氧化
C25D11/30
镁或以其为基之合金的
法律状态
2010-01-13 ：
发明专利申请公布后的驳回
2006-12-06 ：
实质审查的生效
2006-10-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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