一种含高分子链段的夺氢型光引发剂及其制备方法和用途
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
一种含高分子链段的夺氢型光引发剂，由下述方法制得：二苯基甲烷－4，4′－二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯或2，4－甲苯二异氰酸酯分别与含羟基的二苯酮类光引发剂和含羟基的丙烯酸酯树脂或含羟基的甲基丙烯酸酯树脂反应；得到的两种反应产物与分子量在500－5000的聚酯多元醇或聚醚多元醇在温度为50－80℃下，搅拌反应制得含高分子链段的夺氢型光引发剂。这种含高分子链段的夺氢型光引发剂在通用的(甲基)丙烯酸活性单体及(甲基)丙烯酸树脂中有很好的溶解性，其光敏活性与现有的小分子光引发剂相当，且其合成方法简单，可以作为光固化涂层材料用于食品包装、光刻材料、光成像材料、全息记录材料、光学材料以及三维造型材料的引发剂。
基本信息
专利标题 ：
一种含高分子链段的夺氢型光引发剂及其制备方法和用途
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1817914A
申请号 ：
CN200610018288.0
公开（公告）日 ：
2006-08-16
申请日 ：
2006-01-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
聂俊肖浦
申请人 ：
武汉大学
申请人地址 ：
430072湖北省武汉市武昌珞珈山
代理机构 ：
武汉天力专利事务所
代理人 ：
程祥
优先权 ：
CN200610018288.0
主分类号 ：
C08F2/50
IPC分类号 ：
C08F2/50 C09D133/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F2/00
聚合工艺过程
C08F2/46
波能或粒子辐射引发的聚合作用
C08F2/48
用紫外光或可见光
C08F2/50
带光敏剂
法律状态
2010-03-24 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2008-04-09 ：
授权
2006-10-11 ：
实质审查的生效
2006-08-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
