含高分子链段的裂解型光引发剂及其制备方法和用途
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
含高分子链段的裂解型光引发剂，由下述方法制得：二苯基甲烷－4，4′－二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯或2，4－甲苯二异氰酸酯分别与含羟基的裂解型光引发剂和含羟基的(甲基)丙烯酸酯树脂反应；得到的两种反应产物与分子量在500－5000的聚酯多元醇或聚醚多元醇在温度为50－80℃下，搅拌反应制得含高分子链段的裂解型光引发剂。这种含高分子链段的裂解型光引发剂在通用的(甲基)丙烯酸活性单体及(甲基)丙烯酸树脂中有很好的溶解性，其光敏活性与现有的小分子光引发剂相当，且其合成方法简单，可以作为光固化涂层材料用于食品包装、光刻材料、光成像材料、全息记录材料、光学材料以及三维造型材料的引发剂。
基本信息
专利标题 ：
含高分子链段的裂解型光引发剂及其制备方法和用途
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1817915A
申请号 ：
CN200610018289.5
公开（公告）日 ：
2006-08-16
申请日 ：
2006-01-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
聂俊肖浦
申请人 ：
武汉大学
申请人地址 ：
430072湖北省武汉市武昌珞珈山
代理机构 ：
武汉天力专利事务所
代理人 ：
程祥
优先权 ：
CN200610018289.5
主分类号 ：
C08F2/50
IPC分类号 ：
C08F2/50 C09D133/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F2/00
聚合工艺过程
C08F2/46
波能或粒子辐射引发的聚合作用
C08F2/48
用紫外光或可见光
C08F2/50
带光敏剂
法律状态
2010-03-24 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2008-05-07 ：
授权
2006-10-11 ：
实质审查的生效
2006-08-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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