一种耐电晕聚酰亚胺薄膜及其制备方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种耐电晕聚酰亚胺薄膜，其成分配比为：均苯四甲酸二酐以质量计占30％、4.4/一二氨基二苯醚以质量计占30％、二甲基乙醚胺以质量计占15％、正硅酸乙酯以质量计占5％、甲基三乙氧基硅烷以质量计占6％、异丙醇铝以质量计占4％、N－甲基1－2吡咯烷酮以质量计占适量；其制备方法是：聚酰胺酸在搅拌下加入正硅酸乙酯硫酸铝、水和催化剂制得混合溶液，再亚胺化，可以制得自支撑膜，将聚酰胺酸与三乙胺作用，以甲醇为溶剂进行溶胶－凝胶化反应，可得到含20％Al2O3.SiO2的透明薄膜，采用二胺制得功能化的聚酰胺酸，达到70％仍可得到透明薄膜用苯基三乙基硅氧烷(PTEO)代替TEOS得到SiO2含量45％且相容性良好的透明薄膜，在溶胶－凝胶化过程中加入少量偶联剂有效地增加两相的相容性。
基本信息
专利标题 ：
一种耐电晕聚酰亚胺薄膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1793231A
申请号 ：
CN200610023173.0
公开（公告）日 ：
2006-06-28
申请日 ：
2006-01-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
邵爱凤
申请人 ：
上海电器科学研究所（集团）有限公司
申请人地址 ：
200063上海市普陀区武宁路505号
代理机构 ：
上海申汇专利代理有限公司
代理人 ：
俞宗耀
优先权 ：
CN200610023173.0
主分类号 ：
C08L79/08
IPC分类号 ：
C08L79/08 C08J5/18 C08K3/36
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08L
高分子化合物的组合物
C08L79/00
不包括在C08L61/00至C08L77/00组内的，由只在主链中形成含氮的，有或没有氧或碳键的反应得到的高分子化合物的组合物
C08L79/04
在主链中具有含氮杂环的缩聚物；聚酰肼；聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺母体
C08L79/08
聚酰亚胺；聚酯-酰亚胺；聚酰胺-酰亚胺；聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺母体
法律状态
2008-04-30 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-08-23 ：
实质审查的生效
2006-06-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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