一种耐电晕聚酰亚胺复合薄膜的制备方法及复合薄膜
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摘要

本发明涉及一种耐电晕聚酰亚胺复合薄膜的制备方法及复合薄膜。该制备方法包括以下步骤:将羟基取代的苯硫酚键合到含钛纳米材料上,得到改性含钛纳米材料,通过光还原工艺在改性含钛纳米材料上生成贵金属纳米颗粒,得到贵金属纳米颗粒修饰后的含钛纳米材料,将贵金属纳米颗粒修饰后的含钛纳米材料加入到二酐前驱体和二胺前驱体中进行原位聚合,得到聚酰亚胺前驱体复合材料;采用流延法将聚酰亚胺前驱体复合材料制备成聚酰亚胺前驱体薄膜,再进一步使聚酰亚胺前驱体薄膜亚胺化,得到聚酰亚胺薄膜。本发明制备得到的聚酰亚胺薄膜不仅具有优异的介电性能,而且具有优异的耐电晕性能和力学性能。

基本信息
专利标题 :
一种耐电晕聚酰亚胺复合薄膜的制备方法及复合薄膜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113980313A
申请号 :
CN202111617532.6
公开(公告)日 :
2022-01-28
申请日 :
2021-12-28
授权号 :
CN113980313B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
程小荣吴斌马俊锋张春琪崔益华包睿瀚张超
申请人 :
苏州太湖电工新材料股份有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴江区汾湖经济开发区北厍育才路36号
代理机构 :
苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人 :
汪青
优先权 :
CN202111617532.6
主分类号 :
C08J5/18
IPC分类号 :
C08J5/18  C08L79/08  C08K9/02  C08K3/22  C08K9/04  C08K9/06  C08K7/00  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08J
加工;配料的一般工艺过程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小类中的后处理
C08J5/00
含有高分子物质的制品或成形材料的制造
C08J5/18
薄膜或片材的制造
法律状态
2022-04-01 :
授权
2022-02-18 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08J 5/18
申请日 : 20211228
2022-01-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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