高亮度空间相干微焦点X射线源

专利权的终止

摘要

一种高亮度空间相干微焦点X射线源，包括电子束产生及控制系统和位于防辐射外壳中的X射线产生腔两部分，1.所述的电子束产生及控制系统由电子束发生装置，电子束聚焦装置和残余电子束收集装置组成，所述的位于防辐射外壳中的X射线产生腔由入射窗，X射线透射靶，X射线出射窗构成。2.所述的电子束发生装置，电子束聚焦装置和残余电子束收集装置，以及X射线产生腔的入射窗，X射线透射靶，X射线出射窗同轴；本发明高亮度空间相干微焦点X射线源，具有普遍适用、高相干性、高亮度、低成本、体积小和稳定性好的特点。

基本信息

专利标题：

高亮度空间相干微焦点X射线源

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1832054A

申请号：

CN200610023415.6

公开（公告）日：

2006-09-13

申请日：

2006-01-18

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

喻虹韩申生彭卫军张帅

申请人：

中国科学院上海光学精密机械研究所

申请人地址：

201800上海市800－211邮政信箱

代理机构：

上海新天专利代理有限公司

代理人：

张泽纯

优先权：

CN200610023415.6

主分类号：

G21G4/04

IPC分类号：

G21G4/04