本发明通常提供了一种用于在物理气相沉积(PVD)室中处理衬底表面的装置和方法，该物理气相沉积室具有增大的阳极表面面积以提高大面积衬底上的沉积均匀性。通常，本发明的某些方面可用于平板显示处理、半导体处理、太阳能电池处理或任何其他衬底处理。在一个方面，处理室包含一个或更多个阳极组件，这一个或更多个阳极组件用来增加阳极表面面积，并使阳极表面面积在处理室的处理区域中的分布更加均匀。在一个方面，阳极组件包含导电构件和导电构件支撑。在一个方面，处理室适合于允许导电构件从处理室中移出，而不用从处理室中移去任何主要的部件。