本发明一般地提供了一种用于在物理汽相沉积(PVD)室中处理衬底表面的装置和方法，其具有增加的阳极表面积来提高在大面积衬底上的沉积均匀性。一般而言，本发明的方面可以用于平板显示器处理、半导体处理、太阳能电池处理、或任何其他衬底处理。在一个方面，处理室包含用于增加并更均匀地分布在处理室的整个处理区域中的阳极表面积的一个或多个可调阳极组件。在一个方面，一个或多个可调阳极组件适于用新的、未被沉积的阳极表面来更换已沉积的阳极表面而不破坏真空。在另一个方面，具有接地路径的遮蔽框适于在沉积期间接触衬底表面上的沉积层，以增加阳极面积并因此提高沉积均匀性。