磁控管溅射室上的分离磁体环
发明专利申请公布后的驳回
摘要
一种分离磁体环(70)，特别有利于磁控管等离子体反应器(10)，所述反应器用于将钽、钛、钨或其他阻挡金属溅射沉积到过孔中以及从过孔底部将所沉积的材料二次溅射刻蚀到过孔侧壁上。该磁体环包括两个环形磁体环(72、74)，所述环形磁体环具有相同轴向极性并由非磁性间距(76)以及相关的磁极面分开，所述非磁性间距(76)至少为一个磁体的轴向长度。较小的非对称磁控管(36)围绕靶材(16)背面转动，磁控管(36)具有外磁极(42)，外磁极(42)具有与环形磁体(72、74)相同的极性并围绕较弱的内磁极(40)，内磁极具有相反的极性。
基本信息
专利标题 ：
磁控管溅射室上的分离磁体环
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101142094A
申请号 ：
CN200680008750.7
公开（公告）日 ：
2008-03-12
申请日 ：
2006-03-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
傅新宇
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
赵飞
优先权 ：
CN200680008750.7
主分类号 ：
B44C1/22
IPC分类号 ：
B44C1/22 C03C15/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B44
装饰艺术
B44C
产生装饰效果的工艺；镶嵌制品；镶木制品；裱糊
B44C1/00
其他类目不专门包含的用于产生装饰表面效果的工艺
B44C1/22
去除表面材料的，例如通过雕刻、通过蚀刻的
法律状态
2012-04-04 ：
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101315921983
IPC(主分类) : C23C 14/35
专利申请号 : 2006800087507
公开日 : 20080312
号牌文件序号 : 101315921983
IPC(主分类) : C23C 14/35
专利申请号 : 2006800087507
公开日 : 20080312
2008-05-14 ：
实质审查的生效
2008-03-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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