低压处理设备
授权
摘要
本发明公开了一种低压处理设备，其包括有一腔体、一承载盘以及一抽气模块。所述承载盘设于腔体之中，用以置放一基板。所述抽气模块包括多个抽气口，设于所述承载盘上方，当减压时，该抽气模块通过这些抽气口，将腔体内的气体抽出，降低腔体内的气体压力。
基本信息
专利标题 ：
低压处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1847980A
申请号 ：
CN200610066182.8
公开（公告）日 ：
2006-10-18
申请日 ：
2006-03-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄庭辉
申请人 ：
广辉电子股份有限公司
申请人地址 ：
台湾省桃园县
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐乐慧
优先权 ：
CN200610066182.8
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 H01L21/00 H01L21/027 H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2010-12-01 ：
授权
2007-12-26 ：
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 广辉电子股份有限公司
变更后权利人 : 友达光电股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 台湾省桃园县
变更后权利人 : 台湾省新竹市
登记生效日 : 20071123
变更前权利人 : 广辉电子股份有限公司
变更后权利人 : 友达光电股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 台湾省桃园县
变更后权利人 : 台湾省新竹市
登记生效日 : 20071123
2006-12-13 ：
实质审查的生效
2006-10-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN1847980A.PDF
PDF下载
2、
CN1847980B.PDF
PDF下载
