电子束照射装置
授权
摘要
本发明提供一种在将照射室的氧浓度维持在适当水平的同时，能削减惰性气体的使用量的电子束照射装置。一种电子束照射装置(1)，其一边向照射室(4)内导入惰性气体，一边向作为通过照射室(4)的被照射体的薄膜(F)照射电子束，其中，在该电子束照射装置(1)中设置有：检测照射室(4)内的氧浓度的氧浓度计(35)；调整导入到照射室(4)内的惰性气体的流量的主控制阀(25)；按照在氧浓度降低时减少惰性气体的流量的方式，基于由氧浓度计(25)检测出的氧浓度，控制主控制阀(25)的开度的控制单元(40)。
基本信息
专利标题 ：
电子束照射装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1838334A
申请号 ：
CN200610071742.9
公开（公告）日 ：
2006-09-27
申请日 ：
2006-03-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
中尾诚太郎
申请人 ：
大日本印刷株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
朱丹
优先权 ：
CN200610071742.9
主分类号 ：
G21K5/10
IPC分类号 ：
G21K5/10 C08K5/00 G05D7/00 G01N27/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K5/00
照射装置
G21K5/10
具有在束流源与被照射物体有相对运动的设备
法律状态
2011-08-31 ：
授权
2008-05-21 ：
实质审查的生效
2006-09-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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