具有减小了温度依赖性的光学装置
专利权的终止
摘要
具有改进了中心波长温度稳定性的光学设备。在一实施例中，AWG具有多个沿着光路插入的沟槽。该沟槽包括一种或多种补偿材料，该补偿材料总体上校正AWG基底材料的Q阶温度依赖性。Q≥2或者补偿材料的数量至少为2，或者二者兼备。
基本信息
专利标题 ：
具有减小了温度依赖性的光学装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1952709A
申请号 ：
CN200610132293.4
公开（公告）日 ：
2007-04-25
申请日 ：
2006-03-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
辛德瑞克·F.·布瑟尔斯托尼·C.·库沃兹克迈克尔·G·朱布尔
申请人 ：
格姆法尔公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
蒋世迅
优先权 ：
CN200610132293.4
主分类号 ：
G02B6/34
IPC分类号 ：
G02B6/34
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/24
光波导的耦合
G02B6/26
光耦合装置
G02B6/34
利用棱镜或光栅
法律状态
2014-04-16 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101581595967
IPC(主分类) : G02B 6/34
专利号 : ZL2006101322934
申请日 : 20060302
授权公告日 : 20090304
终止日期 : 20130302
号牌文件序号 : 101581595967
IPC(主分类) : G02B 6/34
专利号 : ZL2006101322934
申请日 : 20060302
授权公告日 : 20090304
终止日期 : 20130302
2009-03-04 ：
授权
2007-06-13 ：
实质审查的生效
2007-04-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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