光学设备
公开
摘要
本发明涉及一种光学设备(1)，适于透射/反射电磁谱的波长范围内的电磁辐射，所述设备(1)至少包括：第一涂层(10)，其由第一材料制成；衬底(50)，其由不同于第一材料的材料制成；和表面纹理化(60)，其在设备(1)中形成空腔(61)；其中，布置在第一涂层(10)正下方的下层(50)是由与第一材料不同的材料制成的第二涂层(20)或衬底(50)；其中，下层(50)具有预定厚度(E50)；其特征在于，空腔(61)延伸穿过涂层(20)并且穿过厚度(E50)的至少一部分沉入下层(50)中。
基本信息
专利标题 ：
光学设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114600004A
申请号 ：
CN202080074431.6
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2020-10-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
托马斯·肯普费洛朗·迪博斯特X·塞达奥
申请人 ：
流体力学与摩擦公司;让·莫奈圣埃蒂安大学;曼努科技-USD公司;国家科学研究中心
申请人地址 ：
法国昂德雷济约－布泰翁
代理机构 ：
华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
易皎鹤
优先权 ：
CN202080074431.6
主分类号 ：
G02B1/12
IPC分类号 ：
G02B1/12 G02B1/118 G02B5/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/12
用表面处理，例如，用辐照的方法
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
