减反射膜
授权
摘要
本发明涉及一种减反射膜，该减反射膜在示出散射强度的log值对小角度X射线散射中定义的散射矢量的图中，在0.0758nm‑1至0.1256nm‑1的散射矢量处表现出一个或多个峰(qmax)。
基本信息
专利标题 ：
减反射膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111580192A
申请号 ：
CN202010379588.1
公开（公告）日 ：
2020-08-25
申请日 ：
2017-03-09
授权号 ：
CN111580192B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
边真锡李政圭金芙敬张锡勋张影来
申请人 ：
株式会社LG化学
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵丹
优先权 ：
CN202010379588.1
主分类号 ：
G02B1/11
IPC分类号 ：
G02B1/11 B05D3/02 B05D3/06 B32B7/02 B32B27/08 B32B27/18 C08C19/40 C08F265/06 C08J7/04 C08L27/12 C08L33/10 C08L83/04 C09D4/00 C09D4/06 C09D5/00 C09D5/33 C09D7/40 C09D135/02 G01N23/207 G02B1/113 G02B1/115 G02B1/12 G02B1/14 G02B5/18
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2020-09-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/11
申请日 : 20170309
申请日 : 20170309
2020-08-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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