纳米孔洞型抗反射膜及其制备方法
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明提供一种纳米孔洞型抗反射膜及其制备方法。本发明的纳米孔洞型抗反射膜的制备方法包括下列步骤：先将一含有有机模板的溶胶前驱液涂布于基材上，将溶胶前驱液干燥生成一薄膜后，去除薄膜内的有机模板以形成一纳米孔洞型抗反射膜。在较佳实施例中，可使用UV－O3在室温下去除上述有机模板。本发明还提供由上述制备方法制得的纳米孔洞型抗反射膜，该反射膜在可见光范围的反射率小于0.1、穿透率大于0.9。
基本信息
专利标题 ：
纳米孔洞型抗反射膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1991411A
申请号 ：
CN200510135363.7
公开（公告）日 ：
2007-07-04
申请日 ：
2005-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
赵桂蓉黄国莹陈淑芳
申请人 ：
财团法人工业技术研究院
申请人地址 ：
中国台湾新竹县竹东镇中兴路四段一九五号
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN200510135363.7
主分类号 ：
G02B1/11
IPC分类号 ：
G02B1/11 C03C17/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
法律状态
2012-03-14 ：
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101296924274
IPC(主分类) : G02B 1/11
专利申请号 : 2005101353637
公开日 : 20070704
号牌文件序号 : 101296924274
IPC(主分类) : G02B 1/11
专利申请号 : 2005101353637
公开日 : 20070704
2007-08-29 ：
实质审查的生效
2007-07-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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