高反射纳米薄膜及其制备方法和应用
授权
摘要
本发明提供了一种高反射纳米薄膜及其制备方法和应用，涉及镀膜技术领域，该薄膜包括自下而上依次设置的基材、厚度10‑30nm的过渡层、厚度6‑15nm的第一高折射率层、厚度65‑80nm的第一低折射率层、厚度50‑65nm的第二高折射率层、厚度10‑90nm的第二低折射率层、厚度为25‑90nm的金属层和厚度25‑70nm的第三低折射率层；第二低折射率层和第三低折射率层的厚度之和与金属层的厚度之比为1：(1‑3)；高反射纳米薄膜的膜厚≤440nm。本发明在较薄膜厚下即可达到反射≥95％的反射效果，且镀层满足信赖性要求，满足客户对陶瓷、玻璃或者宝石表面外观视觉效果个性化要求。
基本信息
专利标题 ：
高反射纳米薄膜及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113502453A
申请号 ：
CN202110811822.8
公开（公告）日 ：
2021-10-15
申请日 ：
2021-07-19
授权号 ：
CN113502453B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
于海亮朱斌陈小群
申请人 ：
蓝思科技（长沙）有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市长沙县长沙经济技术开发区漓湘路99号
代理机构 ：
北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
宋南
优先权 ：
CN202110811822.8
主分类号 ：
C23C14/06
IPC分类号 ：
C23C14/06 C23C14/08 C23C14/10 C23C14/18 C23C14/24 C23C14/35 G02B1/10 G02B5/08 G02B5/28 H04M1/02
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2021-11-02 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/06
申请日 : 20210719
申请日 : 20210719
2021-10-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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