无机复合抗反射薄膜溶液及制备方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供了一种无机复合抗反射薄膜溶液及制备方法、底部抗反射层的制备方法,其中,无机复合抗反射薄膜溶液的制备方法包括:将正硅酸乙酯、乙醇、去离子水均匀混合,并使用盐酸调节pH至1‑2;将配制含有乙醇的氨水滴加到混合溶液中,同时在室温下进行搅拌,搅拌完成后干燥,以形成凝胶;采用正己烷进行多次浸泡,并滴加含有三甲基氯硅烷的正己烷溶液并静置,再次添加正己烷并进行超声,得到纳米氧化硅抗反射薄膜溶液并加入纳米氧化锌,混合均匀后,得到无机复合抗反射薄膜溶液。本发明通过上述方法制备得到的无机复合抗反射薄膜溶液可使得底部抗反射层能吸收更多达光刻胶薄膜底部的曝光光线进一步达到消除驻波、提高线条形貌的目的。

基本信息
专利标题 :
无机复合抗反射薄膜溶液及制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114280889A
申请号 :
CN202111634301.6
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
顾大公夏力马潇陈鹏许从应毛智彪
申请人 :
宁波南大光电材料有限公司
申请人地址 :
浙江省宁波市北仑区柴桥街道青山路21号
代理机构 :
深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
左光明
优先权 :
CN202111634301.6
主分类号 :
G03F7/09
IPC分类号 :
G03F7/09  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的,例如,基片层、辅助层
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/09
申请日 : 20211229
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332