防反射薄膜
授权
摘要
本发明涉及一种防反射薄膜，其在基材薄膜的至少一面上，依次具有(A)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和2～25重量％的防带电剂的硬涂层，厚度为1～20μm；以及(B)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和30～80重量％的多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层，厚度为0.05～0.3μm，且表面电阻率为5×1012Ω/□以下。具有如下特征：防反射层是1层，其能有效防止图像显示元件的表面的光反射，同时，抑制尘埃和灰尘等附着的防带电效果的持续性和耐擦伤性优异，且耐溶剂性也优异。
基本信息
专利标题 ：
防反射薄膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101099093A
申请号 ：
CN200580046098.3
公开（公告）日 ：
2008-01-02
申请日 ：
2005-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
所司悟小野泽丰富冈健太
申请人 ：
琳得科株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
北京三幸商标专利事务所
代理人 ：
刘激扬
优先权 ：
CN200580046098.3
主分类号 ：
G02B1/11
IPC分类号 ：
G02B1/11 G02B1/10 B32B7/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
法律状态
2009-04-08 ：
授权
2008-02-27 ：
实质审查的生效
2008-01-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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