防反射薄膜
授权
摘要
本发明涉及一种防反射薄膜，其在基材薄膜的至少一面上，依次层叠(A)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂和含有近红外线吸收剂、厚度为2～20μm的涂层、和(B)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂、折射率为1.43以下、厚度为50～200nm的低折射率层，且至少在波长850～1000nm的全部区域中透过率为30％以下。上述薄膜具有近红外线吸收性能和防反射性能，且耐擦伤性优异，尤其是可以适合用作PDP用，且层结构简单，可以通过湿式处理法低成本地制造。
基本信息
专利标题 ：
防反射薄膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101107543A
申请号 ：
CN200680002782.6
公开（公告）日 ：
2008-01-16
申请日 ：
2006-01-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
所司悟小泉伸
申请人 ：
琳得科株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
北京三幸商标专利事务所
代理人 ：
刘激扬
优先权 ：
CN200680002782.6
主分类号 ：
G02B1/11
IPC分类号 ：
G02B1/11 G02B5/22 B32B27/18 G09F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
法律状态
2010-04-21 ：
授权
2008-03-05 ：
实质审查的生效
2008-01-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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