宽光谱减反射薄膜的制备方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种宽光谱减反射薄膜的制备方法，该方法的实质是采用镀膜机在制备薄膜的过程中不断改变薄膜基片与膜料沉积的倾斜角度并利用膜料的自遮挡效应，一次性地镀制出折射率从基底的折射率变化到空气折射率的渐变折射率的薄膜。实验证明本发明方法制备的渐变折射率的薄膜具有宽光谱减反射的性能。
基本信息
专利标题 ：
宽光谱减反射薄膜的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1752275A
申请号 ：
CN200510031025.9
公开（公告）日 ：
2006-03-29
申请日 ：
2005-10-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
傅小勇易葵王素梅邵建达范正修
申请人 ：
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 ：
201800上海市800－211邮政信箱
代理机构 ：
上海新天专利代理有限公司
代理人 ：
张泽纯
优先权 ：
CN200510031025.9
主分类号 ：
C23C14/54
IPC分类号 ：
C23C14/54 C23C14/24
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2008-11-26 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-05-24 ：
实质审查的生效
2006-03-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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