宽光谱无定形碳膜、光学薄膜及其制备方法
授权
摘要
本发明主要目的在于提供一种宽光谱无定形碳膜、光学薄膜及其制备方法。所述碳膜在400nm‑12000nm波段内可透过；其制备方法为在真空气氛下，以石墨为靶材磁控溅射，溅射的同时向真空室内通入氩气和碳氢气体；所述碳氢气体为甲烷和/或氢气；所述光学薄膜依次包括宽光谱可透过的基体及设置于其表面的碳膜；或宽光谱可透过的基体、设置于其表面的增透膜及设置于增透膜表面的碳膜。所解决的技术问题是通过在碳膜镀制时引入氢元素，使其在可见光及红外波段均具有非常良好的透过性，将其应用到可见、红外均透过的光学基体表面，起到宽波段增透和物理、化学防护的作用，满足光电系统对宽光谱、多谱段透过的需求，从而更加适于实用。
基本信息
专利标题 ：
宽光谱无定形碳膜、光学薄膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110938804A
申请号 ：
CN201911219325.8
公开（公告）日 ：
2020-03-31
申请日 ：
2019-12-03
授权号 ：
CN110938804B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
伏开虎金扬利祖成奎刘永华陈玮孙丽谭玉蔚郝雪菲
申请人 ：
中国建筑材料科学研究总院有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区管庄东里1号
代理机构 ：
北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘铁生
优先权 ：
CN201911219325.8
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/06 C23C14/02 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2020-04-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20191203
申请日 : 20191203
2020-03-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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