一种硫化钐全息记录光学薄膜的制备方法
专利权的终止
摘要
一种硫化钐全息记录光学薄膜的制备方法，在去离子水中通入Ar气除去水中的O2，然后，将分析纯的氯化钐和硫代硫酸钠分别溶于通入Ar气后的去离子水中配制成浓度为0.05－0.1mol/L的溶液；将两种溶液按2∶1－1∶4的体积比混合，以铂丝为阳极，硅片为阴极置入上述混合溶液中，采用直流稳压稳流电源以2－9mA的电流和10－20V的电压电沉积0.5－3小时，同时以3.6％的稀盐酸溶液调节混合液的pH值为2.5－5.5；将硅片从溶液中取出，在去离子水中浸2遍，取出后在烘箱中20－40℃下烘干，即得到硫化钐薄膜。本发明通过控制溶液的pH值及调节Sm和S的浓度比的范围，从而制备出硫化钐薄膜。制备的薄膜表面比较平整，无需热处理即为晶相，可以制备出单一晶相的硫化钐薄膜。
基本信息
专利标题 ：
一种硫化钐全息记录光学薄膜的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1818718A
申请号 ：
CN200610041907.8
公开（公告）日 ：
2006-08-16
申请日 ：
2006-03-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄剑锋马小波曹丽云吴建鹏
申请人 ：
陕西科技大学
申请人地址 ：
712081陕西省咸阳市人民西路49号
代理机构 ：
西安通大专利代理有限责任公司
代理人 ：
张震国
优先权 ：
CN200610041907.8
主分类号 ：
G02B1/00
IPC分类号 ：
G02B1/00 C01F17/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
法律状态
2013-05-01 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101446753141
IPC(主分类) : G02B 1/00
专利号 : ZL2006100419078
申请日 : 20060309
授权公告日 : 20080102
终止日期 : 20120309
号牌文件序号 : 101446753141
IPC(主分类) : G02B 1/00
专利号 : ZL2006100419078
申请日 : 20060309
授权公告日 : 20080102
终止日期 : 20120309
2008-01-02 ：
授权
2006-10-11 ：
实质审查的生效
2006-08-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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