反射模块、光学照明装置及光学改性设备
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种反射模块、光学照明装置及光学改性设备，该反射模块包括多个反射单元，多个反射单元呈阵列形式排布，每个所述反射单元能够独立动作以改变照射至其上的光线的入射角度。该反射模块的各反射单元的位置可独立控制，从而实现对光照强度的调节，应用于光学照明装置等光辐射系统中，可根据需要灵活控制光照强度，提高对光能的有效利用率。
基本信息
专利标题 ：
反射模块、光学照明装置及光学改性设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114325891A
申请号 ：
CN202111669241.1
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
谭华强
申请人 ：
拓荆科技股份有限公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市浑南区水家900号
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
陕芳芳
优先权 ：
CN202111669241.1
主分类号 ：
G02B1/12
IPC分类号 ：
G02B1/12 G02B26/12
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/12
用表面处理，例如，用辐照的方法
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/12
申请日 : 20211230
申请日 : 20211230
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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