用于环行抛光机的校正板
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要
一种用于环行抛光机的校正板，该校正板由上盘和下盘以及处于上盘和下盘之间的空腔内的多个位移调节件固定在一起而构成，在所述的上盘上还结合一中心具有凸形轴套的轴套板，该轴套板的凸起中心位置通过推力轴承套设一调压轴，该调压轴固定在一可在桁架上移动的溜板上。经试用表明本实用新型校正板使工件的被抛光表面平整化过程更容易控制，可有效控制工件面形精度并提高抛光效率。
基本信息
专利标题 ：
用于环行抛光机的校正板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200620048585.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2006-12-05
授权号 ：
CN200991846Y
授权日 ：
2007-12-19
发明人 ：
樊全堂朱健强
申请人 ：
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 ：
201800上海市800－211邮政信箱
代理机构 ：
上海新天专利代理有限公司
代理人 ：
张泽纯
优先权 ：
CN200620048585.5
主分类号 ：
B24B29/02
IPC分类号 ：
B24B29/02
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2008-12-17 ：
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 20081210
2007-12-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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