一种用于圆盘抛光机的活动基座及圆盘抛光机

授权

摘要

本实用新型涉及抛光设备技术领域，具体涉及一种用于圆盘抛光机的活动基座及圆盘抛光机，包括：底座，底座呈条形，沿底座的长度方向，所述底座内设有贯穿的空腔，上表面设有与空腔连通的滑槽；传动组件，传动组件包括传动电机和滚珠丝杠，滚珠丝杠安装于空腔中，且滚珠丝杠的滑块位于滑槽处；传动电机安装于底座的端部，且输出轴与滚珠丝杠的端部连接；上拖板，上拖板安装于所述滚珠丝杠的滑块上，用于安装所述圆盘抛光机的抛光装置。通过设置上述结构，使得可自动调节抛光装置的位置，提高了抛光效果。

基本信息

专利标题：

一种用于圆盘抛光机的活动基座及圆盘抛光机

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022364432.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-10-21

授权号：

CN213319521U

授权日：

2021-06-01

发明人：

冯德华

申请人：

江门市蓬江区泰德利机械设备有限公司

申请人地址：

广东省江门市蓬江区杜阮镇松园村猪圈A-3厂房

代理机构：

北京力量专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

张力

优先权：

CN202022364432.4

主分类号：

B24B29/02

IPC分类号：

B24B29/02 B24B41/04 B24B41/06 B24B47/22