辐射源射线角度的调节装置
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要

辐射源射线角度的调节装置,涉及辐射照相、成像检测技术领域。本实用新型包括机座、屏蔽体和齿轮传动机构。其结构特点是,所述机座中置有前后两层结构相同并且互为垂直布列的屏蔽层。每层屏蔽层是由置于机座框架两侧内的丝杠和导轨光杠、置于各丝杠和导轨光杠上的两个丝杠滑块、与各丝杠滑块活动嵌接并置于与机座框架固定的圆弧导轨上可滑动的屏蔽体及与各丝杠端连接的齿轮传动机构组成。各丝杠沿中心分成旋向相反的螺纹段。当齿轮传动机构转动时,各丝杠使丝杠滑块带动各屏蔽体沿圆弧导轨轨迹移动而调整由四块屏蔽体形成的矩形截面缝隙。同现有技术相比,本实用新型具有结构紧凑、占用空间小、成本低、操作简单的特点。

基本信息
专利标题 :
辐射源射线角度的调节装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620134055.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-10-13
授权号 :
CN200959241Y
授权日 :
2007-10-10
发明人 :
刘耀红陈玉梅李健
申请人 :
清华同方威视技术股份有限公司
申请人地址 :
100083北京市清华同方科技广场A座2901
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200620134055.2
主分类号 :
G21K1/00
IPC分类号 :
G21K1/00  G21K1/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置,如聚焦或慢化
法律状态
2010-01-06 :
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 20091223
2007-12-26 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
变更事项 : 专利权人
变更前 : 清华同方威视技术股份有限公司
变更后 : 同方威视技术股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100083北京市清华同方科技广场A座2901
变更后 : 100083北京市清华同方科技广场A座2901
2007-10-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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