氧化铈研磨剂以及包含该研磨剂的浆料
授权
摘要
本发明公开了一种用于选择性抛光各种SiO2膜和SiO2－Si3N4膜的氧化铈研磨剂；以及包含该研磨剂的浆料。由于采用具有六方晶体结构的六方碳酸铈作为铈的原料合成具有5nm或更小平均晶体粒度的多晶氧化铈，所以本发明的氧化铈研磨剂和抛光浆料具有高抛光速度，并且在抛光时抛光表面也无微痕。
基本信息
专利标题 ：
氧化铈研磨剂以及包含该研磨剂的浆料
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101006153A
申请号 ：
CN200680000046.7
公开（公告）日 ：
2007-07-25
申请日 ：
2006-01-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
鲁埈硕吴明焕金长烈金钟泌曹升范
申请人 ：
LG化学株式会社
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京金信立方知识产权代理有限公司
代理人 ：
朱梅
优先权 ：
CN200680000046.7
主分类号 ：
C09K3/14
IPC分类号 ：
C09K3/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K3/00
不包含在其他类目中的材料
C09K3/14
防滑材料；研磨材料
法律状态
2010-02-10 ：
授权
2007-09-19 ：
实质审查的生效
2007-07-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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