单元、成像装置以及制造单元框架的方法
专利权的终止
摘要
为了提供能够提高刀片部件到旋转部件上的定位精确度的单元、成像装置和用于制造单元框架的方法。设在框架的一个表面(刀片与之接触)上的凸台的第一基准面由第一模具形成，该第一模具形成用于定位旋转部件的定位孔。第一基准面支承刀片部件，以防止刀片部件朝向重力方向移动。利用这种布置，没有因模具装配误差而造成的第一基准面的制造误差。结果，可以提高刀片部件到旋转部件上的定位精确度。
基本信息
专利标题 ：
单元、成像装置以及制造单元框架的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1957305A
申请号 ：
CN200680000253.2
公开（公告）日 ：
2007-05-02
申请日 ：
2006-03-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田中秀树藤城宇贡
申请人 ：
株式会社理光
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王冉
优先权 ：
CN200680000253.2
主分类号 ：
G03G21/18
IPC分类号 ：
G03G21/18 G03G21/10
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03G
电记录术；电照相；磁记录
G03G21/00
不包括在G03G13/00至G03G19/00各组中的装置，例如，清洁、消除残余电荷
G03G21/16
使设备维护简易的机械装置，例如，组合式装置
G03G21/18
应用处理暗盒
法律状态
2020-03-10 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03G 21/18
申请日 : 20060308
授权公告日 : 20100519
终止日期 : 20190308
申请日 : 20060308
授权公告日 : 20100519
终止日期 : 20190308
2010-05-19 ：
授权
2007-06-27 ：
实质审查的生效
2007-05-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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