成像元件、成像元件的制造方法、成像装置以及成像装置的制造方法

成像元件、成像元件的制造方法、成像装置以及成像装置的制造...

授权

摘要

本公开提供了一种成像装置的制造方法，所述成像装置在成像区域中包括多个成像元件，其中各个所述成像元件包括基板中的光电转换部和配置在所述光电转换部的光入射侧的线栅偏振器。所述方法通常包括形成包括多个层叠条形部分的线栅偏振器，其中所述多个层叠条形部分中的每一个包括光反射层的一部分和光吸收层的一部分。所述光反射层可以包含与所述基板和所述光电转换部中的至少一个电连接的第一导电材料。所述光吸收层可以包含第二导电材料，其中所述光吸收层的至少一部分与所述光反射层接触。

基本信息

专利标题：

成像元件、成像元件的制造方法、成像装置以及成像装置的制造方法

专利标题（英）：

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公开（公告）号：

CN108028259A

申请号：

CN201680052715.9

公开（公告）日：

2018-05-11

申请日：

2016-09-30

授权号：

CN108028259B

授权日：

2022-05-17

发明人：

山崎知洋丸山康

申请人：

索尼半导体解决方案公司

申请人地址：

日本神奈川县

代理机构：

北京信慧永光知识产权代理有限责任公司

代理人：

王新春

优先权：

CN201680052715.9

主分类号：

H01L27/146

IPC分类号：

H01L27/146