本发明涉及制备具有纳米多层的用于光学应用尤其是X-射线光学系统的元件的方法，其中元件优选是单晶硅，纳米多层由使用溶胶-凝胶-涂布连续施涂到其上的单层来制备。本发明的目的是提供成本有利的方法，使用该方法可以只由一种材料，特别是由氧化铝，制备具有在多层中可预定的密度调整的纳米多层。该目的通过以下来解决，其中多层通过具有每种情况下最低的可能层厚的相同材料的多个连续实现的层结构来实现，其中连续的每个单层通过元件在溶胶-凝胶-池中短时间浸渍或将溶胶-凝胶-溶液喷涂于元件上，随后在预定温度下在空气中干燥或退火处理来制备。