光学元件的制造方法、光学元件以及显示装置
授权
摘要
提供光学元件的制造方法、光学元件以及显示装置，轻量且能够抑制由翘曲引起的衍射性能的降低。本发明的光学元件的制造方法的特征在于，该光学元件的制造方法具有如下工序：第1工序，将全息形成用材料粘贴于具有标记部的玻璃基板，然后对全息形成用材料进行干涉曝光，由此在玻璃基板上形成全息层；以及第2工序，将从玻璃基板剥离的全息层粘贴于具有第1对准标记的塑料基板，在第2工序中，使用塑料基板的第1对准标记和在干涉曝光时形成在全息层的与标记部对应的位置的第2对准标记进行塑料基板和全息层的对位。
基本信息
专利标题 ：
光学元件的制造方法、光学元件以及显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112445114A
申请号 ：
CN202010868288.X
公开（公告）日 ：
2021-03-05
申请日 ：
2020-08-26
授权号 ：
CN112445114B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
斋藤淳立木洋幸野口俊幸
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
邓毅
优先权 ：
CN202010868288.X
主分类号 ：
G03H1/12
IPC分类号 ：
G03H1/12 G02B5/32 G02B27/01
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03H
全息摄影的工艺过程或设备
G03H1/00
应用光波、红外波或紫外波取得全息图或由此获得图像的全息摄影工艺过程或设备；及其特殊的零部件
G03H1/04
产生全息图的工艺过程或设备
G03H1/10
应用调制的参考光束的
G03H1/12
空间调制，例如，幻影成像
法律状态
2022-05-13 ：
授权
2021-03-23 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03H 1/12
申请日 : 20200826
申请日 : 20200826
2021-03-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN112445114A.PDF
PDF下载
