非线性光学元件的制造方法
专利权的终止
摘要

本发明在非线性光学材料组成的基板的第1主表面上形成绝缘膜。接着,在该绝缘膜设定:在基板应该形成的周期构造形成领域对应的周期构造形成区域;与该周期构造形成区域邻接的周边区域;在周期构造形成区域应该周期地排列形成的多个分极反转领域对应的分极反转区域;周边区域内的连接区域,即在基板应该形成的与多个分极反转领域连接的连接领域对应的该连接区域,然后除去绝缘膜的分极反转区域及连接区域的部分,使基板的第1主表面的部分露出,形成绝缘膜图案。接着,在基板的从绝缘膜图案露出的第1主表面的部分及第2主表面间,在电解液中施加高电压,使分极反转领域的分极方向反转。

基本信息
专利标题 :
非线性光学元件的制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1831621A
申请号 :
CN200610004372.7
公开(公告)日 :
2006-09-13
申请日 :
2006-01-27
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
冈部丰
申请人 :
冲电气工业株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
杨凯
优先权 :
CN200610004372.7
主分类号 :
G02F1/35
IPC分类号 :
G02F1/35  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/19
•• G02F1/015至G02F1/167不包括的基于可变的反射或折射元件的
G02F1/35
非线性光学
法律状态
2012-04-11 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02F 1/377
专利号 : ZL2006100043727
申请日 : 20060127
授权公告日 : 20090722
终止日期 : 20110127
号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101217909960
2009-07-22 :
授权
2007-05-16 :
实质审查的生效
2006-09-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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