包括电介质阻挡放电灯的处理系统
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摘要

本发明公开了一种处理系统或反应器(1),这种处理系统或反应器(1)包括至少一个电介质阻挡放电灯(2)和外壳(10),至少一个电介质阻挡放电灯(2)具有第一电极(20),外壳(10)用于容纳介质(3),如流体和/或气体和/或固体材料,通过即将由灯(2)所产生的辐射对介质(3)进行处理,这种处理系统或反应器(1)的特征在于以至少一个中间对电极(3、4)的形式提供至少一个灯(2)的至少一个第二电极,至少一个中间对电极(3、4)位于至少一个电介质阻挡放电灯(2)与外壳(10)之间的体积(31)中。这样,可避免或可显著地减少经过处理的介质对处理系统或反应器(1)的电特性的影响,尤其是介质中的电功率损失。而且也避免了由于在包围灯的外电极的吸收和/或阴暗而导致的灯光的损失。

基本信息
专利标题 :
包括电介质阻挡放电灯的处理系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101111458A
申请号 :
CN200680003326.3
公开(公告)日 :
2008-01-23
申请日 :
2006-01-25
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
W·谢恩G·格鲁尔J·M·J·格博尔斯A·范德波尔
申请人 :
皇家飞利浦电子股份有限公司
申请人地址 :
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
李亚非
优先权 :
CN200680003326.3
主分类号 :
C02F1/32
IPC分类号 :
C02F1/32  H01J61/00  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先)
C02F1/30
辐射法
C02F1/32
用紫外线的
法律状态
2021-06-01 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : C02F 1/32
变更事项 : 专利权人
变更前 : 飞利浦灯具控股公司
变更后 : 昕诺飞控股有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 荷兰埃因霍温
变更后 : 荷兰埃因霍温
2017-04-05 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101749557788
IPC(主分类) : C02F 1/32
专利号 : ZL2006800033263
登记生效日 : 20170315
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 皇家飞利浦有限公司
变更后权利人 : 飞利浦灯具控股公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 荷兰艾恩德霍芬
变更后权利人 : 荷兰埃因霍温
2017-04-05 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101749557787
IPC(主分类) : C02F 1/32
专利号 : ZL2006800033263
变更事项 : 专利权人
变更前 : 皇家飞利浦电子股份有限公司
变更后 : 皇家飞利浦有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 荷兰艾恩德霍芬
变更后 : 荷兰艾恩德霍芬
2010-05-26 :
授权
2008-04-02 :
实质审查的生效
2008-01-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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