微型机器的制造方法以及微型机器
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明提供一种能够抑制构造体腐蚀的微型机器的制造方法以及微型机器。其特征在于，具有：在基板(11)上构图形成具有含有氟化氢的解离物质的硅氧化物类材料的牺牲层(12)的第一工序；以覆盖牺牲层(12)的状态在上述基板(11)上形成构造体(16)的第二工序；在牺牲层(12)上的构造体(16)上形成到达牺牲层(12)的孔部(18)的第三工序；从孔部(18)只导入氟化氢气体或者只导入氟化氢气体和惰性气体，利用牺牲层(12)中的解离物质来进行牺牲层(12)的蚀刻，由此在基板(11)和构造体(16)之间形成振动空间的第四工序。
基本信息
专利标题 ：
微型机器的制造方法以及微型机器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101111993A
申请号 ：
CN200680003423.2
公开（公告）日 ：
2008-01-23
申请日 ：
2006-01-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
逢坂勉佐藤进
申请人 ：
索尼株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
王健
优先权 ：
CN200680003423.2
主分类号 ：
H03H3/02
IPC分类号 ：
H03H3/02 H01L41/22 H01L21/302 H01L41/09 H03H9/17 B81C1/00
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法律状态
2011-09-14 ：
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101183795945
IPC(主分类) : H03H 3/02
专利申请号 : 2006800034232
公开日 : 20080123
号牌文件序号 : 101183795945
IPC(主分类) : H03H 3/02
专利申请号 : 2006800034232
公开日 : 20080123
2008-03-12 ：
实质审查的生效
2008-01-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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