羟烷基－官能化的填料
专利权的视为放弃
摘要
本发明涉及颗粒P1，在它们的表面上带有通式(II)的基团，[O1/2SiR32－CR42－O－(CR42)b－OH]，其中R3和R4相同或不同，它们代表氢基或单价的、任选由－CN、－NCO、－NRx2－、－COOH、－COORX、－PO(ORx)2、－卤素、－丙烯醛基、－环氧基、－SH、－OH或－CONRX2取代的C1－C20烃基或C1－C15烃氧基，其中在每个烃氧基中一或多个不相邻的亚甲基单元可以被－O－、－CO－、－COO－、－OCO－、或－OCOO－、－S－或－NRx－基团取代，并且其中一或多个不相邻的次甲基单元可以由基团－N＝、－N＝N－或－P＝取代，Rx代表氢基或任选由－CN或卤素取代的C1－C10烃基；以及b是至少1的整数。
基本信息
专利标题 ：
羟烷基－官能化的填料
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101115794A
申请号 ：
CN200680004018.2
公开（公告）日 ：
2008-01-30
申请日 ：
2006-01-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
O·舍费尔C·布里赫T·戈特沙尔克－高迪希
申请人 ：
瓦克化学有限公司
申请人地址 ：
德国慕尼黑
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
程伟
优先权 ：
CN200680004018.2
主分类号 ：
C08K9/06
IPC分类号 ：
C08K9/06 G03G15/20 C09C1/30
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08K
使用无机物或非高分子有机物作为配料
C08K9/00
使用预处理的配料
C08K9/04
用有机物质处理的配料
C08K9/06
用含硅化合物
法律状态
2011-11-16 ：
专利权的视为放弃
号牌文件类型代码 : 1606
号牌文件序号 : 101131517559
IPC(主分类) : C08K 9/06
专利申请号 : 2006800040182
放弃生效日 : 20080130
号牌文件序号 : 101131517559
IPC(主分类) : C08K 9/06
专利申请号 : 2006800040182
放弃生效日 : 20080130
2008-03-19 ：
实质审查的生效
2008-01-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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