用于制备要装配在膜电极组件中的膜的方法和膜电极组件
专利权的终止
摘要
公开了一种用于制备要装配在膜电极组件(10)中的膜的方法，包括以下步骤：a)利用具有预定辐照分布的电磁和/或粒子辐射对聚合物薄膜(2)的部分(4)进行辐照，以便限定被辐照的部分(4)以及在该薄膜的所述被辐照的部分(4)中形成反应中心、即自由基；由此通过未被辐照的膜部分的隔离带(6)使被辐照的部分(4)相互分离；b)使包括被辐照的部分(4)的薄膜(2)暴露于受自由基聚合作用的单体或单体混合物，以便实现接枝共聚物在所述被辐照的部分(4)中的形成。
基本信息
专利标题 ：
用于制备要装配在膜电极组件中的膜的方法和膜电极组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101116214A
申请号 ：
CN200680004063.8
公开（公告）日 ：
2008-01-30
申请日 ：
2006-01-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
G·G·谢勒L·古布勒S·A·古尔塞尔
申请人 ：
保罗·谢勒学院
申请人地址 ：
瑞士菲利根
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
卢江
优先权 ：
CN200680004063.8
主分类号 ：
H01M8/10
IPC分类号 ：
H01M8/10
法律状态
2013-03-27 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101422521366
IPC(主分类) : H01M 8/10
专利号 : ZL2006800040638
申请日 : 20060125
授权公告日 : 20090729
终止日期 : 20120125
号牌文件序号 : 101422521366
IPC(主分类) : H01M 8/10
专利号 : ZL2006800040638
申请日 : 20060125
授权公告日 : 20090729
终止日期 : 20120125
2009-07-29 ：
授权
2008-03-19 ：
实质审查的生效
2008-01-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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