采用逆流循环及其他技术涂布内表面的方法和系统
专利权的视为放弃
摘要
提供了一种涂布工件(10)的内表面的方法和系统。将偏压(12)与作为阴极的工件相连。将气体源(34)和真空源(44)耦合到穿过流控制系统的各个开口。该流控制系统具有第一种模式(110和112)，即第一开口作为气体入口而第二开口作为真空排气口。该流控制系统还具有第二种模式(114)，即第一开口作为起真空排气管口而第二开口作为气体入口。也可用这种循环来涂布只有一个开口的工件的内表面。使该流控制系统在第一种模式与第二种模式之间循环，直到实现了沿工件内表面的均匀涂层。
基本信息
专利标题 ：
采用逆流循环及其他技术涂布内表面的方法和系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101146927A
申请号 ：
CN200680006948.1
公开（公告）日 ：
2008-03-19
申请日 ：
2006-03-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·W·图多珀W·J·伯德曼R·D·麦卡多F·康崔莱斯
申请人 ：
分之一技术公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
钱慰民
优先权 ：
CN200680006948.1
主分类号 ：
C23C16/04
IPC分类号 ：
C23C16/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
法律状态
2011-12-07 ：
专利权的视为放弃
号牌文件类型代码 : 1606
号牌文件序号 : 101146109410
IPC(主分类) : C23C 16/04
专利申请号 : 2006800069481
放弃生效日 : 20080319
号牌文件序号 : 101146109410
IPC(主分类) : C23C 16/04
专利申请号 : 2006800069481
放弃生效日 : 20080319
2008-05-14 ：
实质审查的生效
2008-03-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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