包含镧系离子的发光化合物
专利权的视为放弃
摘要
本发明提供由分子式(I)代表的发光化合物： 分子式(I)Met－COG－ChHet 其中，Met代表包含镧系离子的基团，COG代表直接键合至包含在Met所代表的基团中的镧系离子的杂环基团，ChHet代表具有杂环的基团，其中ChHet优选地是与COG共轭的基团。
基本信息
专利标题 ：
包含镧系离子的发光化合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101146889A
申请号 ：
CN200680009122.0
公开（公告）日 ：
2008-03-19
申请日 ：
2006-03-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
中村刚希福永广文
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
于辉
优先权 ：
CN200680009122.0
主分类号 ：
C09K11/06
IPC分类号 ：
C09K11/06 C07D471/04 C07D498/04 C07D513/02 C07D471/14 C07D215/20 C07D491/04 C07D513/04 C07D487/04 C07D403/14 C07D417/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K11/00
发光材料，例如电致发光材料、化学发光材料
C09K11/06
含有机发光材料
法律状态
2012-12-12 ：
专利权的视为放弃
号牌文件类型代码 : 1606
号牌文件序号 : 101363532114
IPC(主分类) : C07D 471/04
专利申请号 : 2006800091220
放弃生效日 : 20080319
号牌文件序号 : 101363532114
IPC(主分类) : C07D 471/04
专利申请号 : 2006800091220
放弃生效日 : 20080319
2008-05-14 ：
实质审查的生效
2008-03-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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