半导体的清洁
发明专利申请公布后的驳回
摘要
一种清洁基体的方法，包括使半导体基体的表面与包含离子液体的组合物接触。清洁基体的另一种方法包括使半导体基体的表面与包含超强酸的组合物接触。半导体基体可以是晶片。
基本信息
专利标题 ：
半导体的清洁
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101155906A
申请号 ：
CN200680011004.3
公开（公告）日 ：
2008-04-02
申请日 ：
2006-02-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
罗伯特·J·斯莫尔
申请人 ：
罗伯特·J·斯莫尔
申请人地址 ：
美国亚利桑那州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
刘冬
优先权 ：
CN200680011004.3
主分类号 ：
C11D11/00
IPC分类号 ：
C11D11/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C11
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛
C11D
洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收
C11D11/00
制备含洗涤剂混合物之组合物的特殊方法
法律状态
2016-05-11 ：
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101732256422
IPC(主分类) : C11D 11/00
专利申请号 : 2006800110043
申请公布日 : 20080402
号牌文件序号 : 101732256422
IPC(主分类) : C11D 11/00
专利申请号 : 2006800110043
申请公布日 : 20080402
2008-05-28 ：
实质审查的生效
2008-04-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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